Vers l'industrialisation de l'auto-assemblage dirigé des copolymères à blocs : développement de procédés de lithographie compatibles avec les noeuds technologiques sub-10 nm pour des applications de type contacts / Shayma Bouanani ; sous la direction de Raluca Tiron

Date :

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Catalogue Worldcat

Copolymères séquencés

Lithographie -- Technique

Semiconducteurs

Classification Dewey : 620

Tiron, Raluca (1977-....) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Boussey, Jumana (Président du jury de soutenance / praeses)

Soppera, Olivier (1974-....) (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Plain, Jérôme (1972-....) (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Sinturel, Christophe (Membre du jury / opponent)

Gharbi, Ahmed (Membre du jury / opponent)

Cayrefourcq, Ian (Membre du jury / opponent)

Communauté d'universités et d'établissements Université Grenoble Alpes (Organisme de soutenance / degree-grantor)

École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble) (Ecole doctorale associée à la thèse / doctoral school)

Observatoire des micro et nanotechnologies (Grenoble) (Laboratoire associé à la thèse / thesis associated laboratory)