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Dépôt et caractérisation de couches minces de SiCxNy.H par CVD assistée par plasma micro-ondes ECR avec précurseurs organosiliciés / Amanda Thouvenin ; sous la direction de Mohammed Belmahi

Date :

Editeur / Publisher : , 2016

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Catalogue Worldcat

Plasmas microondes -- Thèses et écrits académiques

Couches minces -- Thèses et écrits académiques

Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma -- Thèses et écrits académiques

Silicium -- Substrats -- Thèses et écrits académiques

Classification Dewey : 620.44

Classification Dewey : 530.44

Belmahi, Mohammed (Directeur de thèse / thesis advisor)

Belmonte, Thierry (1967-....) (Président du jury de soutenance / praeses)

Raynaud, Patrice (19..-....) (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Roualdes, Stéphanie (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Bousquet, Angélique (1979-...) (Membre du jury / opponent)

Goullet, Antoine (Membre du jury / opponent)

Miska, Patrice (19..-2018) (Membre du jury / opponent)

Thomas, Laurent (19..-.... ; professeur de chimie) (Membre du jury / opponent)

Université de Lorraine (Organisme de soutenance / degree-grantor)

EMMA - Ecole Doctorale Energie - Mécanique - Matériaux (Ecole doctorale associée à la thèse / doctoral school)

Institut Jean Lamour (Nancy ; Vandoeuvre-lès-Nancy ; Metz) (Laboratoire associé à la thèse / thesis associated laboratory)