Development and characterization of plasma etching processes for the dimensional control and LWR issues during High-k Metal gate stack patterning for 14FDSOI technologies / Onintza Ros Bengoetxea ; sous la direction de Erwine Pargon et de Pascal Gouraud

Date :

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : anglais / English

Catalogue Worldcat

Gravure par plasma

Rugosité

Classification Dewey : 620

Pargon, Erwine (1977-....) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Gouraud, Pascal (Directeur de thèse / thesis advisor)

Vallée, Christophe (19..-.... ; microélectronicien) (Président du jury de soutenance / praeses)

Cardinaud, Christophe (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Dussart, Rémi (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Bouchoule, Sophie (Membre du jury / opponent)

Communauté d'universités et d'établissements Université Grenoble Alpes (Organisme de soutenance / degree-grantor)

École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble) (Ecole doctorale associée à la thèse / doctoral school)

Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble) (Laboratoire associé à la thèse / thesis associated laboratory)

STMicroelectronics (Entreprise associée à la thèse / thesis associated company)