Diminution of the lithographic process variability for advanced technology nodes / Anna Szucs ; sous la direction de Cécile Gourgon

Date :

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : anglais / English

Catalogue Worldcat

Microélectronique

Lithographie

Classification Dewey : 620

Gourgon, Cécile (Directeur de thèse / thesis advisor)

Bsiesy, Ahmad (Président du jury de soutenance / praeses)

Communauté d'universités et d'établissements Université Grenoble Alpes (Organisme de soutenance / degree-grantor)

École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble) (Ecole doctorale associée à la thèse / doctoral school)

Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble) (Laboratoire associé à la thèse / thesis associated laboratory)