Vous n'auriez pas dû voir cette page, destinée aux moteurs de recherche. Allez plutôt voir du côté de www.sudoc.abes.fr/DB=2.1/SRCH?IKT=12&TRM=079555578.

Croissance et propriétés de films minces de HfO2 déposés par Atomic layer deposition pour des applications microélectroniques / Delphine Blin ; sous la dir. de Jean Durand

Date :

Editeur / Publisher : [S.l.] : [s.n.] , 2003

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

MOS (électronique) -- Thèses et écrits académiques

Couches diélectriques -- Croissance -- Thèses et écrits académiques

Couches diélectriques -- Teneur en chlore -- Thèses et écrits académiques

Chimie des surfaces -- Thèses et écrits académiques

Durand, Jean (1942-.... ; chimiste) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Université des sciences et techniques de Montpellier 2 (1970-2014) (Organisme de soutenance / degree-grantor)