Amélioration des méthodes de contrôle dimensionnel et d'alignement pour le procédé de lithographie à double patterning pour la technologie 14 nm / Damien Carau ; sous la direction de Cécile Gourgon et de Maxime Besacier et de Christophe Dezauzier

Date :

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Mesure

Classification Dewey : 620

Gourgon, Cécile (19..-.... ; auteure en physique) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Besacier, Maxime (1975-.... ; auteur en génie électrique) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Dezauzier, Christophe (19..-....) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Jourlin, Yves (1973-....) (Président du jury de soutenance / praeses)

Granet, Gérard (Rapporteur de la thèse / thesis reporter)

Vagos, Pedro (19..-....) (Membre du jury / opponent)

Communauté d'universités et d'établissements Université Grenoble Alpes (2015-2019) (Organisme de soutenance / degree-grantor)

École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble ; 199.-....) (Ecole doctorale associée à la thèse / doctoral school)

Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble) (Laboratoire associé à la thèse / thesis associated laboratory)

STMicroelectronics (Entreprise associée à la thèse / thesis associated company)

Résumé / Abstract : En microélectronique, l'augmentation de la densité des composants est la solution principale pour améliorer la performance des circuits. Ainsi, la taille des structures définies par la lithographie diminue à chaque changement de nœud technologique. A partir du nœud 14 nm, la lithographie optique est confrontée à la limite de résolution pour les niveaux métalliques. Pour surmonter cet obstacle, les niveaux métalliques sont conçus en deux étapes successives de patterning regroupant chacune une étape de lithographie et une étape de gravure. Cette technique, nommée double patterning, requiert une métrologie adaptée car l'alignement entre les deux étapes et les dimensions critiques sont alors directement liées. La méthode de mesure développée dans cette thèse repose sur la scattérométrie et la mesure de l'alignement par diffraction. Un code de simulation a permis d'optimiser la conception des mires de mesure. De plus, la méthode de mesure adoptée a pu être validée expérimentalement.

Résumé / Abstract : In microelectronics, the increase of component density is the main solution to improve circuit performance. The size of the patterns defined by lithography is reduced at each change of technology node. From the 14 nm node, optical lithography is facing the resolution limit for metal levels. In order to overcome this hurdle, metal levels are designed in two successive steps of patterning, which is composed of lithography followed by etching. This double patterning technique requires an appropriate metrology since overlay between the two steps and critical dimensions are directly linked. The developed method is based on scatterometry and overlay measurement by diffraction. Using a simulation code, the measurement targets have been designed optimally. Then the adopted method has been validated experimentally.