Contributions à l'étude de la diffusion, de l'agglomération et de l'activation du bore dans le silicium : application à la réalisation de jonctions ultraminces P+/N pour le MOS fortement submicronique / Xavier Hébras ; sous la dir. d'Alain Claverie, Filadelfo Cristiano

Date :

Editeur / Publisher : [S.l.] : [s.n.] , 2003

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Diffusion (physique)

Bore

Semiconducteurs -- Jonctions

MOS complémentaires

Claverie, Alain (19..-....) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Cristiano, Filadelfo (19..-....) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Université Toulouse 3 Paul Sabatier (1969-....) (Organisme de soutenance / degree-grantor)

Relation : Contributions à l'étude de la diffusion, de l'agglomération et de l'activation du bore dans le silicium : application à la réalisation de jonctions ultraminces P+/N pour le MOS fortement submicronique / Xavier Hébras ; sous la direction d'Alain Claverie, Filadelfo Cristiano / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2003