Contributions à l'étude de la diffusion, de l'agglomération et de l'activation du bore dans le silicium : application à la réalisation de jonctions ultraminces P+/N pour le MOS fortement submicronique / Xavier Hébras ; sous la dir. d'Alain Claverie, Filadelfo Cristiano
Date : 2003
Editeur / Publisher : [S.l.] : [s.n.] , 2003
Type : Livre / Book
Type : Thèse / ThesisLangue / Language : français / French
Diffusion (physique)
Bore
Semiconducteurs -- Jonctions
MOS complémentaires
Relation : Contributions à l'étude de la diffusion, de l'agglomération et de l'activation du bore dans le silicium : application à la réalisation de jonctions ultraminces P+/N pour le MOS fortement submicronique / Xavier Hébras ; sous la direction d'Alain Claverie, Filadelfo Cristiano / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2003