Evaluation de couches minces originales à base de chrome déposées par MOCVD comme barrières à la diffuion du cuivre / par Cyrille Gasquères ; sous la dir. de Francis Maury

Date :

Editeur / Publisher : [S.l.] : [s.n.] , 2003

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Dépôt en phase vapeur par organométalliques

Chrome

Métallisation

Pyrométrie

Maury, Francis (19..-.... ; chargé de recherche) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Institut national polytechnique (Toulouse ; 1969-....) (Organisme de soutenance / degree-grantor)

Relation : Evaluation de couches minces originales à base de chrome déposées par MOCVD comme barrières à la diffuion du cuivre / par Cyrille Gasquères ; sous la direction de Francis Maury / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2003

Résumé / Abstract : Dans l'optique d'augmenter les performances des microprocesseurs, l'aluminium a été remplacé par le cuivre dans les interconnections. Celui-ci offre une plus faible résistivité électrique et une meilleure résistance à l'électromigration. Cependant sa grande mobilité dans le silicium et les mátériaux diélectriques pose de graves problèmes. La solution retenue est d'isoler le cuivre de son environnement par une fine barrière à la diffusion. Le choix du matériau pouvant remplir ce rôle reste encore ouvert en raison des exigences draconiennes, surtout en terme d'épaisseur. Dans cette étude, nous avons proposé deux barrières originales à base de chrome : Cr3(C,N)2 et CrSixCy déposées par MOCVD à l'état amorpheL Les propriétés de ces couches ont été étudiées. La stabilité des structures Cu/barrière/Si a été estimée à 650°C/30 min. La nécessité de maîtriser de très fines épaisseurs nous a également conduit à développer une méthode de suivi in situ par pyrométrie IR.