REALISATION ET MISE EN ŒUVRE D'APPAREILLAGES ET DE METHODES DE CARACTERISATIONS ELECTRIQUES DES SEMICONDUCTEURS III-V / LATIFA ELBATAL ; sous la direction de J.-P. GERMAIN

Date :

Editeur / Publisher : [Lieu de publication inconnu] : [Éditeur inconnu] , 1991

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Germain, Jean-Paul (19..-.... ; auteur en électronique quantique) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Université Blaise Pascal (Clermont-Ferrand ; 1976-2016) (Organisme de soutenance / degree-grantor)

Relation : REALISATION ET MISE EN ŒUVRE D'APPAREILLAGES ET DE METHODES DE CARACTERISATIONS ELECTRIQUES DES SEMICONDUCTEURS III-V / Latifa Elbatal ; sous la direction de J.-P. Germain / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1991

Résumé / Abstract : CE MEMOIRE EST DIVISE EN DEUX PARTIES: UNE PARTIE TRAITE L'EFFET HALL, L'AUTRE DES MESURES I-V, C-V ET G-V. LA PREMIERE PARTIE DECRIT ET QUALIFIE LE BANC DE MESURE D'EFFET HALL A TEMPERATURE VARIABLE (77 K... 400 K) QUE NOUS AVONS REALISE ET LA METHODE DE REALISATION DES CONTACTS OHMIQUES UTILISEE. L'ETUDE DES VARIATIONS AVEC LA TEMPERATURE, DE LA RESISTIVITE, DE LA MOBILITE ET DE LA CONCENTRATION DES PORTEURS LIBRES DES ECHANTILLONS INP ET GALNAS TESTES A PERMIS DE DETERMINER LES MECANISMES COLLISIONNELS PREPONDERANTS, AINSI QUE L'ENERGIE D'ACTIVATION DES DONNEURS (OU ACCEPTEURS) PROFONDS. LA MOBILITE A 77 K A PERMIS POUR INP DE DETERMINER LE RAPPORT DE COMPENSATION. LA DEUXIEME PARTIE DECRIT ET QUALIFIE LES BANCS DE MESURE I-V ET C-V A TEMPERATURE VARIABLE (77 K... 400 K) QUE NOUS AVONS MONTES. LES CARACTERISATIONS PAR LES TECHNIQUES I-V ET C-V ONT ETE TESTEES SUR DES DIODES SCHOTTKY AL-GAAS ET M.I.S. TUNNEL AL/SIO#2/SI. LES RESULTATS OBTENUS POUR LES DIODES SCHOTTKY ONT REVELE UN ECART IMPORTANT ENTRE LES HAUTEURS DE BARRIERE CALCULEES PAR I-V ET PAR C-V, DE MEME QU'UNE VARIATION DU FACTEUR D'IDEALITE ET DE LA HAUTEUR DE BARRIERE AVEC LA TEMPERATURE ET L'ENERGIE DU BOMBARDEMENT IONIQUE. LES RESULTATS OBTENUS POUR LES DIODES M.I.S. TUNNEL ONT MONTRE QUE LE TRANSPORT DE COURANT S'EFFECTUAIT PAR EFFET THERMOIONIQUE ASSISTE ET QUE LE RECUIT A 400 K PERMETTAIT DE DEBLOQUER LE NIVEAU DE FERMI ET DE REDUIRE LA DENSITE DES ETAT D'INTERFACE