Elaboration et caractérisation des siliciures utilisés comme matériaux de grille ou d'interconnexion dans les circuits VLSI / Isabelle Lombaert ; sous la direction de Yves Danto

Date :

Type : Livre / Book

Type : Thèse / Thesis

Langue / Language : français / French

Circuits intégrés à très grande échelle

Électrodes

Conduction électrique

Qualité -- Contrôle

Rétrodiffusion

Études comparatives

Danto, Yves (1942-....) (Directeur de thèse / thesis advisor)

Université Bordeaux-I (1971-2013) (Organisme de soutenance / degree-grantor)

Relation : Elaboration et caractérisation de siliciures utilisés comme matériaux de grille ou d'interconnexion dans les circuits VLSI / Isabelle Lombaert / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1988

Résumé / Abstract : LA REDUCTION DES DIMENSIONS DES MOTIFS DANS LES CIRCUITS VLSI A ENTRAINE LE REMPLACEMENT PARTIEL DU SILICIUM POLYCRISTALLIN UTILISE COMME MATERIAU DE GRILLE PAR DES SILICIURES DE METAUX REFRACTAIRES OU DE TRANSITION, QUI SONT MOINS RESISTIFS. UNE ETUDE APPROFONDIE A ETE EFFECTUEE SUR LA RESOLUTION EN PROFONDEUR DE LA TECHNIQUE RBS, QUI EST UNE METHODE TRES ADAPTEE A LA CARACTERISATION DES SILICIURES. ENSUITE, DES ANALYSES COMPARATIVES DE CONSTRUCTION ONT ETE REALISEES SUR PLUSIEURS MEMOIRES DRAM COMPORTANT UN SILICIURE. LE SILICIURE DE TITANE, TISI2, A ETE ELABORE PAR TROIS DIFFERENTES TECHNIQUES ET LES PROPRIETES PHYSICO-CHIMIQUES DE CES COUCHES ONT ETE COMPAREES. DES RESISTIVITES DE L'ORDRE DE 13-16 MICRO-OHMS CENTIMETRES ONT ETE OBTENUES PAR CES METHODES DE DEPOT SUIVIES D'UN RECUIT RAPIDE